MULLER Dominique
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IRHC au CNRS |
Email : d.muller AT unistra.fr |
Téléphone : +33 (0) 38810 6693 |
Adresse: |
Activité principale
- Responsable de la plate-forme C3-Fab de ICube qui comprend une salle blanche, deux systèmes de boites à gants et une plate-forme faisceau d'ions
ainsi qu'un ensemble d'équipement et savoir-faire autour de la conception de systèmes et d'imagerie rapide.
- Activités de Recherche : Les sujets que j'ai abordés dans le cadre de la Thématique Faisceaux d'ions de l'équipe MaCEPV exploitent les potentiels de l'implantation et de l’irradiation par des ions liés au caractère fortement hors équilibre des mécanismes mis en jeu. Des approches originales de fabrication de nanostructures ou nano−objets, de matériaux 2D ayant des applications potentielles dans le domaine des composants ultimes électroniques, opto−électroniques , ou photovoltaïques sont visées ; d’autres actions concernent le traitement de surface par des faisceaux d’ions (biomatériaux, polymères) ou des procédés technologiques type exfoliation. Plus récemment j'ai initié dans le cadre de collaborations avec des chimistes une thématique autour de la radiobiologie. Domaines d'applications
- Domaine d’expertise
- interaction ion / matière
- analyse et traitement des matériaux par faisceaux d’ions
- ingénierie de nanostructures et de particules nanométriques
- production de faisceaux d'ions énergétiques (du keV au MeV)
Projets de recherche
- nanoparticules de Co 1995/2010, soutien CNRS : élaboration, irradiation et caractérisation de np de Co
- traitement des biomatériaux, soutien Région Alsace 2007/2010
- Projet ANR−PNANO NOMAD 2008/2010 : stockage des charges sur des nanoparticules de Ge dans des diélectriques à forte permitivité
- Projet ANR−HABISOL MOSAIQUE 2011/2013 : développement de procédés d'élaboration de cellule solaire par moulage
- Projet ANR MONODIAM-HE 2013-2017 : développement d'un procédé d'exfoliation de couche mince de diamant (2-3μm) basé sur des implantations de carbone et d’hydrogène
- Projet BeNEFIT/SATT 2018-2019 : exploitation de l'exfoliation du Si pour le photovoltaique.
Co-encadrement de thèse
- Étude des propriétés opto-électroniques et de transport de nanocristaux semi-conducteurs dopés en vue de leur intégration dans des composants de la filière silicium
Abdelatif Chelouche, soutenue le 3 juillet 2018
- Synthèse de graphène par implantation ionique dans des matrices diffusantes
Fitsum Aweke, thèse en cours
- Synthèse par faisceaux d'ions de nanocristaux semi-conducteurs fonctionnels en technologie silicium
Rim Khelifi, soutenue le 5 mars 2015
- Etude de l’influence de l’implantation ionique à haute énergie sur les propriétés de revêtements biocéramiques poreux
Léandro Jacomine, soutenue le 20 septembre 2010
- Etude structurale et magnétique de couches minces anisotropes d’alliages CoPt et leur nanostructuration par irradiation sélective et gravure ionique sèche
Madgid Abes, soutenue le 2 décembre 2004
- Elaboration par implantation ionique de nanoparticules de cobalt dans la silice et modifications de leurs propriétés sous irradiation d’électrons et d’ions de haute énergie
Céline d'Orléans, soutenue le 11 juillet 2003
- Application des techniques de Nanoindentation aux couches modifiées par implantation d’ions à haute énergie
Hervé Pelletier, soutenue le 20 février 2001
- Structure et propriétés magnétiques de nanoparticules de métaux de transition élaborées par implantation ionique dans des verres de silice
Octavio Cintora-Gonzalez, soutenue le 15 février 2001
- Elaboration et caractérisation structurale de couches minces de Si1-xGex obtenues par implantation ionique suivie de traitements thermiques classique ou laser
Florence Repplinger, soutenue le 22 juin 1994
Enseignement
« Méthodes d’analyse nucléaires des matériaux » : cours, TD et TP en 2ième année à l’IUT Louis Pasteur spécialité Mesures Physiques
Responsabilités scientifiques et administratives
- Responsable de la plateforme C3-Fab de ICube (depuis 2013)
- Responsable de l'Action Transverse de Soutien à la Recherche (A.T.S.R.) "Technologie Inorganique et Faisceaux d'Ions" de InESS (2009-2013)
- Responsable de l'implanteur Haute Energie de InESS (2005-2009)
- Membre du Comité IBAF (président en 2014-2015): réseau des utilisateurs des ions énergétiques.
- Membre du comité de pilotage du réseau RANGE : réseau des centrales technologiques du Grand Est
- Co-direction du comité Scientifique de C3-Fab
- Membre du comité de direction du laboratoire ICube
- Membre du conseil de département DESSP de ICube
- Membre du bureau de direction de l'équipe MaCEPV
- Personne compétente de Radioprotection de ICube (+InESS) depuis 2005
Organisation de Conférence / Workshop
Membre du comité d'organisation de la 24ième International Conference on Ion Beam Analysis qui se déroulera du 13 au 18 octobre 2019 à Antibes
L'édition 2014 des rencontres de la communauté des utilisateurs des faisceaux d'ions a été organisée par le groupe Faisceaux d'Ions de MaCEPV et a eu lieu à Obernai, du 7 au 10 octobre 2014. Ce forum réunit régulièrement physiciens, chimistes, biologistes et spécialistes des faisceaux d'ions et des accélérateurs.
comité
Parcours professionnel
| Depuis 1991 | Ingénieur de Recherches du CNRS à ICube. |
| 1990 – 1991 | Institut de Physique et Chimie des Matériaux de Strasbourg (IPCMS) |
| 1989 – 1990 | Ingénieur post-doc CEA - Saclay |
| 1989 | Doctorat en Physique des Matériaux |
Publications
Articles référencés dans ISI Web of Knowledge : 114 articles, H-index = 22 (sept 2018)
Publications référencées dans ISI - Web Of Science
Liste des publications avec Facteur d'Impact
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